Pandora 粉末原子层沉积（ALD）设备-纳米图层包覆-Forge Nano

Laboratory Limit Test Certificate

实验室极限测试证明

准备好开启 “魔盒”

“这台设备可以在平面样品与粉末样品之间切换自如，你甚至可以通过窗口观察粉末的旋转包覆过程”

Product Specification

产品规格参数

工艺温度

50 – 200 °C
液体前驱体通道

最多 6 个
气体通道

可应要求提供
占地面积

40″ L x 50″ W x 63″ H
容量

最多 200 mL 粉末状底物
选件

在线质谱，臭氧发生器，QCM，cGMP规范设计
基材处理

手动装载

Product Usage

产品用途

PALD（粉末原子层沉积）流化床技术

Pandora拥有一个最大可容纳200ml样品的粉末腔室，并可通过加入平面样品台实现平面样品沉积。这一设计很好的改善了传统原子层沉积ALD系统只能实现平面样品沉积的尴尬局面。由于粉末样品的高比表面积，传统的平面ALD沉积扩散效率太低，而Pandora采用旋转式反应腔+精确前驱体注入系统可实现最大效率的前驱体利用率及粉末分散效果。粉末在腔室中做滚动旋转，同时利用反冲装置可防止粉末的团聚。旋转床粉末包覆可最大限度提升粉末的兼容性，实现更多类型的粉末包覆。

紧凑设计

Pandora多功能原子层沉积系统可以实现最高6套独立前驱体通道,可配备3路低蒸汽压前驱体通道，同时为实现稳定的工艺，系统可配置石英晶体天平以及质谱仪。
多领域应用

Pandora 系统满足 cGMP 规范，可用于制药，能源，催化，3D打印等多个领域。
可支持的涂层

可支持氧化物、金属、氮化物等化学涂层包覆，应用于蓬松或难以流化的粉末、丸剂/胶囊/小物体、制药原料药

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