Unimill离子减薄仪-制备高减薄率的、高质量的TEM样品-匈牙利Technoorg Linda

Dual function

双重功能

离子束的宽能量范围支持使用同一台仪器实现极高的研磨速率和温和的清洁功能。

Easy to use and automated operation

易于使用和自动化操作

UniMill 离子减薄仪配备了使用简单便捷的图形界面，可通过计算机进行控制。所有切削参数都可以按进行存储或预编程。 UniMill 的这种全自动功能可在最少的用户干预下制备高质量的样品。

Sample cooling

样品冷却保护

为了满足所有可能的需求，UniMill 提供两种不同的冷却选项：液氮冷却减少了离子束轰击过程中样品的过度加热。因此，可以在不破坏内部结构稳定性的情况下制备热敏材料；Peltier 冷却是一种舒适的保护，可防止过热并使样品保持在室温。

Fast and motorized sample exchange

快速和机动化样品交换

负载锁和机动化样品架驱动系统提供快速、简单的样品交换，尽可能减少用户操作，负载锁保护工作室内的真空度，为用户节省大量时间和精力。

Online monitoring and support

在线监控和支持

UniMill 附带用于在线技术支持的拓展软件，可通过互联网即时检测错误并及时消除问题。

Product Application

产品应用

UniMill 离子减薄仪适用于研究新型材料或探索新型样品制备方法的用户，由于设备具有极高的研磨速率，也非常适合用于低溅射率的材料，如金刚石、蓝宝石等。通过低能离子枪轰击获得无人工痕迹样品，这为技术科学和材料研究领域探索合成材料和天然材料的真实纳米结构提供了独特的机会。

如图是001 GaN 平面视角样品的 TEM 图像。使用高能离子枪研磨后，样品通过 300 eV 的低能离子枪进行精细处理。

Product Specification

产品规格参数

成像系统

用于全视觉控制和切削监控/终止的 CMOS 相机图像

高分辨率彩色 CMOS 相机

50 - 400 倍放大范围的手动变焦视频镜头

电脑控制

内置工业级计算机

简单便捷的图形界面和图像分析模块

支持用户手动调节离子枪参数，包括气流调节

用于自动设置机械和切削参数的预编程方案（可以手动调整）

自动样品加载

自动终止：图像分析模块支持的切削过程的光学终止（通过检测薄区穿孔或监测表面形貌）

供气系统

99.999% 纯氩气，绝对压力为 1.3 - 1.7 bar

带有电子出口压力监测功能的惰性气体专用压力调节器

工作气体流量高精准控制

真空系统

Pfeiffer 真空系统配备无油隔膜和涡轮分子泵，配备紧凑的全范围 Pirani/Penning 真空计

电源要求

100 - 120 V/10 A/ 50-60 Hz 或 220 - 240 V/5 A/ 50-60 Hz

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