TERA-Fab Elite 是面向大面积加工的无掩膜光刻系统，采用与 E-series 2.0 相同的先进光源引擎，可在目标波长下提供高功率、高均匀性的投影光场。Elite 通过 DLP 数字投影光学系统，实现微米级分辨率的大面积图案化加工，无需实体掩膜，仅需上传数字掩膜图案即可完成任意微纳结构设计。设备支持从紫外到可见光范围的多种 LED 光源选择，具备自动调平、焦平面识别等自动化功能，可降低人为误差并提升图案一致性。Elite 特别适用于微流控器件、灰度光刻、生物工程、水凝胶结构、表面图案化、传感器及大面积功能器件原型制造。

大面积无掩膜光刻系统 Elite，定位于桌面级高通量数字光刻与微纳加工平台。设备采用先进 DLP 投影光学系统，可通过 Elite OS 软件直接加载数字掩膜图案，在单次打印中实现毫米平方级区域内的微米级结构加工，单个镜元投影分辨能力可达 1.25 μm 以上。Elite 配备真空吸附样品夹具，可兼容最大 4 英寸直径样品，适合更大面积基底和多类型样品的快速图案化。系统具备多波长光源配置能力，包括 405 nm、532 nm，并可选配 365 nm、460 nm 等波长，用于不同光敏材料和工艺需求。通过自动化样品台调平、焦平面识别、数字曝光参数控制和直观软件界面，Elite 可帮助用户快速完成微流控模具、8-bit 灰度结构、生物材料支架、光敏聚合物图案及功能化表面结构的开发，是面向科研实验室和应用研发平台的大面积无掩膜光刻解决方案。