Prometheus Atomic Layer Deposition System
Prometheus 振动流化床原子层沉积系统

Prometheus 粉末原子层沉积(ALD)设备非常适合对粉末进行精密、保形的纳米包覆,一次性可包覆 0.1g-1kg 的粉末量。

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Test Certificate
实验室极限测试证明

“它已经不停机连续运行了 18 个月。

这太棒了,因为它除了不断工作 ,什么也不干!”

Product Specification
产品规格参数
  • 工艺温度
    50 – 450 °C
  • 液态前驱体通道
    最多 8 个
  • 气体通道
    可应要求提供
  • 占地面积
    88″ L x 30″ W x 78″ H
  • 容量
    1ml-1 L 粉末材料
  • 选件
    臭氧发生器,在线质谱,流化辅助
  • 基材处理
    手动和/或惰性装载
Product Usage
产品用途

PALD(粉末原子层沉积)流化床技术

Prometheus系列旨在为研究人员提供大量粉末的精细涂层开发的工具。系统最多可容纳8种前驱体,包括高蒸汽压输送和鼓泡低蒸汽压输送系统,可轻松处理气体、液体和固体前驱体配方。整个系统中独立加热的区域可确保前驱物和敏感基材的最佳运行条件。这款新颖的原子层沉积ALD研发工具配有多种流化手段,可确保颗粒充分流化以形成均匀的涂层。振动流化床反应器和高剪切射流有助于防止粉末聚集并改善反应器中的混合。高度自动化和智能监控使进料可高度受控。该系统配备有紧急停止逻辑,以使ALD系统能够连续、安全且自主地运行。用户界面也很直观,易于使用及学习。

  • 多功能 灵活 经济

    Forge Nano提供多种系统配置来匹配不同的客户需求, 利用Prometheus系列你可以进微量的包覆实验,也可以进行小批量的规模化成产。

  • 可支持的化学涂层

    氧化物、金属、氮化物、磷酸盐、MLD

  • 应用领域

    催化剂、热填料、制药原料药、电池材料、材料封装

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