2026年7月28日至8月3日，2026中国扫描探针显微学大会（ChinaSPM 2026）暨第三届先进材料及量子科学国际研讨会（3rd AMQS）将在中国·新疆·乌鲁木齐新疆国际会展中心举行。

本届大会围绕扫描探针显微技术、量子科学、先进材料及交叉前沿技术展开交流，聚焦原子尺度结构解析、多物理场调控、先进测量技术以及新材料产业化发展，为科研人员与产业界搭建高水平交流平台。

复纳科技将携纳米尺度表征与微纳制造解决方案亮相大会现场，围绕原子力显微技术、多模态关联分析以及无掩膜微纳加工技术，展示先进仪器平台在材料科学、量子研究、能源材料、半导体及纳米器件领域的创新应用。

01 会议信息

• 复纳科技展位号：22
• 会议时间：2026年7月28日-31日
• 会议地点：乌鲁木齐 · 新疆国际会展中心

展位平面图（22 号展位）

诚邀各位专家、学者及科研工作者莅临交流，共同探索微纳尺度科学研究的新方向。

02 现场样机展示：icspi Redux 原子力显微镜

展会期间，复纳科技将现场展示 icspi Redux 原子力显微镜，提供设备操作体验与技术交流。

作为先进扫描探针显微平台，icspi Redux 可实现纳米尺度表面形貌观察与精细结构分析，帮助研究人员深入探索材料表面结构、界面特性及微观演化过程。

凭借高稳定性扫描性能与灵活的应用模式，icspi Redux 可广泛应用于：

• 二维材料与低维体系研究
• 新型功能材料分析
• 能源材料与电池界面研究
• 纳米器件结构表征

助力科研人员从微观结构出发，理解材料性能与功能之间的内在关联。

03 复纳科技产品推荐

原子力显微镜

AFM-SEM 电镜式原子力显微镜

AFM-SEM 原子力扫描电镜一体机

• 相关多模态样品分析：可将同位置的 AFM（三维形貌、电学、磁学等）和 SEM（二维形貌、EDS 等）数据无缝关联
• 原位样品表征：在 SEM 内部的原位条件下确保样品分析同时、同地、同条件下进行，在飞纳电镜内部也能实现原子级分辨率
• 精确定位感兴趣区域：使用 SEM 导航 AFM 尖端到感兴趣区域，定位更精准，且定位速度远超传统 AFM

LiteScope 电镜式原子力显微镜

• 使用 SEM 对 AFM 探针进行精准定位，并实现高分辨成像
• 同一时间、同一位置和相同条件下获取 AFM 和 SEM 数据，并无缝关联
• 测量模式涵盖形貌、CPEM、KPFM、MFM、PFM、STM、EFM、C-AFM、I/V 特性、F/z 特性等，可选配纳米压痕
• 可兼容赛默飞世尔、TESCAN、蔡司、日立、日本电子等主流品牌，其他品牌亦可定制

icspi 原子力显微镜

icspi 是一家专注于扫描探针显微技术的加拿大高科技公司，在原子力显微镜系统设计、探针控制与纳米级表征技术方面拥有深厚的技术积累。其 AFM 产品以高稳定性、高重复性及灵活的模块化架构著称，广泛应用于半导体器件表征、薄膜与纳米材料研究、精密表面形貌分析等领域。

Redux 全自动桌面式原子力显微镜

nGauge 便携式原子力显微镜

Tera-Fab 光刻打印产品

TERA-Fab® E series 2.0 聚束笔无掩膜光刻打印沉积系统采用聚束笔（Clustered Pen）无掩膜打印技术，可实现微纳尺度材料沉积与结构直接制造，无需传统光刻掩膜，支持快速、灵活的微纳结构加工。

• 大规模并行柔性探针阵列：可独立控制大量微光束，实现高效、灵活的大面积直写
• 双模分辨率：亚衍射极限（<250 nm）与微米级（>1.25 µm）灵活切换，蘸笔打印小于 100nm 特征尺寸样品
• 三工艺集成：集光束笔光刻、蘸笔打印、DMD 无掩模光刻于一体
• 数字无掩模直写：支持图像文件导入，实时调整图案，多波长（紫外～可见光）兼容多种材料

2026中国扫描探针显微学大会暨第三届先进材料及量子科学国际研讨会，将汇聚扫描探针显微学、量子科学、先进材料领域专家学者，共同探索未来科学研究的新技术、新方向。

复纳科技诚邀您莅临 22 号 展位，现场体验 icspi Redux 原子力显微镜，了解纳米尺度表征与微纳制造前沿技术。

期待与您相聚新疆，共探纳米世界，共创科学未来！

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