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Tera Print
TERA-Fab® 系列光刻打印产品
Technical Principle
技术原理
  • 聚束笔光刻（BPL）

    在聚合物笔尖上制作纳米级小孔并镀上遮光金属层，使光线只能从笔尖的纳米孔径中射出，通过控制笔尖与基底的距离在近场与远场间切换，可突破光学衍射极限，实现亚 250 nm 分辨率的无掩模光刻

  • 聚合物笔打印（PPL）

    采用弹性体制成大规模微型笔阵列，通过精确控制笔尖与基底的接触压力和时间来改变笔尖变形程度，从而调控转移至基底的墨水量，实现从纳米到毫米尺度的高通量图案化打印。  

Product Presentation
产品展示
TERA-Fab®Elite 系列大面积无掩模光刻
支持多波长 LED 定制，在单次打印中实现精度达 1.25 μm、面积达平方毫米级的高均匀投影，同时配备真空吸盘样品支架，可处理直径达 10 cm 的样品。

先进的DLP投影光学系统只需将数字掩模设计上传至我们的Elite OS软件，即可在单次打印中实现精度高达1.25微米（>1.25 µm）、面积达平方毫米（mm²）的独立镜面投影。Elite配备真空吸盘式样品支架，可处理直径达4英寸（10厘米）的样品。

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TERA-Fab®T series 蘸笔光刻打印沉积
采用多达 16 万笔尖阵列，通过蘸笔式接触沉积实现无掩模、亚 200 nm 分辨率、平方厘米级大面积图案化加工。

广泛应用于纳米粒子、蛋白阵列、单细胞、纳米电路及生物芯片等领域。

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TERA-Fab®E series 2.0 聚束笔无掩膜光刻打印沉积系统
集成聚束笔光刻、蘸笔打印、DMD 无掩模光刻三大工艺，一体化高精度微纳图形制备系统

通过在光束笔光刻模式下操作 E 系列设备，可以创建亚衍射分辨率 (<250 nm) 的图案和结构。或者，无需光束笔阵列，即可将 E 系列设备用作DMD无掩模光刻工具，实现微米级分辨率 (>1.25 µm) 的图案化。

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Application Area
应用领域
  • 微流控器件
  • 灰度光刻
  • 生物工程
  • 阵列控制
  • 化学组分控制
  • 特征尺寸和浓度控制
  • 超高灵活性
  • 高特征尺寸分辨率
  • 高通量无掩膜光刻
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生物工程
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高通量无掩膜光刻
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